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Cristal óptico
Temperatura Parte de vidrio de cuarzo transparente revestido a medida para uso industrial
| Temperatura de trabajo: | 1200 grados, 1050°C |
|---|---|
| Revestimiento: | N/A, Aduanas, MGF2, A/R |
| Temperatura de funcionamiento: | Aproximadamente 1200 °C |
Lámina aislante de cuarzo pulido con revestimiento antirreflectante para un rendimiento térmico mejorado
| Temperatura de trabajo: | 1200 grados, 1050°C |
|---|---|
| Revestimiento: | N/A, Aduanas, MGF2, A/R |
| Temperatura de funcionamiento: | Aproximadamente 1200 °C |
Vidrio de cuarzo óptico de forma triangular con orificio, placa de cuarzo fundido transparente
| material: | vidrio de cuarzo |
|---|---|
| El grosor: | Se requiere |
| Tolerancia de las dimensiones: | ± 0,2 mm |
Placa de vidrio de cuarzo óptico Vidrio de cuarzo transparente con agujeros grandes
| El material: | Cuarzo fundido |
|---|---|
| Tamaño: | Personalizado |
| Cuota de producción: | 1 PC |
Placa de cuarzo óptico de vidrio de cuarzo fundido, forma triangular con agujero
| El material: | vidrio de cuarzo |
|---|---|
| El grosor: | Se requiere |
| Tolerancia de las dimensiones: | ± 0,2 mm |
Vidrio óptico de cuarzo de tamaño personalizado Placa dopada con cerio
| El material: | Cerio dopado |
|---|---|
| Cloruro: | Está bien. |
| Superficie: | Polido por máquina |
Placa de vidrio de cuarzo óptico con capa de oro
| Material: | Vidrio de cuarzo |
|---|---|
| Superficie: | Capa del oro |
| tamaño: | Producción original |
Vidrio óptico de cuarzo Placas de vidrio de cuarzo sintético
| El material: | Vidrio de cuarzo sintético |
|---|---|
| El color: | Transparente |
| Forma de las piezas: | Hecho a medida |
Tapa final con revestimiento AR de vidrio de cuarzo óptico para conector de láser de fibra
| El material: | Cuarzo fundido, Corning 7979, Corning 7980, Heraeus 300, Heraeus 313 y otros materiales a medida |
|---|---|
| Revestimiento: | Capa de AR |
| SD: | 10/5 |
Anillo de vidrio de cuarzo fundido de silicio de alta pureza
| El material: | Vidrio de sílice fundido |
|---|---|
| Componente de dióxido de silicio: | No2> 99,99% |
| Temperatura de trabajo: | 1200℃ |

