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Tubo OD43xWall3xL495mm de alta pureza con un extremo herméticamente sellado para horno de tubos Precursor CVD
| Material: | Cuarzo de la pureza elevada |
|---|---|
| Diámetro exterior: | 43 mm |
| Espesor de la pared: | 3mm |
Tubo de cuarzo de pared gruesa OD200xID190xL100mm de alta pureza para reactor químico con revestimiento de horno tubular grande
| Material: | Cuarzo de la pureza elevada |
|---|---|
| Diámetro exterior: | 200 mm |
| Diámetro interior: | 190 mm |
Tubo capilar de cuarzo con paredes ultra delgadas espesor de pared 0,05 mm
| El color: | claro transparente |
|---|---|
| Tipo de sellado: | Sello de un extremo/ Ambos extremos abiertos |
| Tamaño: | Personalizable |
Partes de vidrio personalizadas Protección radiológica Gran tamaño Hoja de vidrio de plomo transparente
| Nombre del producto: | Hoja de vidrio de plomo transparente de gran tamaño |
|---|---|
| El tipo: | placa de cristal |
| El color: | Está bien. |
Tubos capilares de cristal del cuarzo rectangulares para la aduana de la alta precisión del laboratorio
| Material: | Silicio fundido |
|---|---|
| Forma: | Rectangular |
| Superficie: | Transparente |
Placa de cuarzo perforada de precisión 290x6x40mm de alta pureza para el revestimiento de vacío de deflector de horno de tubo
| Material: | Cuarzo de la pureza elevada |
|---|---|
| Dimensiones: | 290 mm x 6 mm x 40 mm |
| Tipo de agujero: | Perforado con precisión, tolerancia estricta |
Tubo de cuarzo sellado de un extremo OD25xID21xL130mm de alta pureza para horno de tubos
| Material: | Cuarzo de la pureza elevada |
|---|---|
| Dimensiones: | OD25mm x ID21mm x L130mm |
| Espesor de la pared: | 2mm |
Pureza elevada de la ventana 210x20m m del cuarzo pulido del lado doble para la mirilla de la cámara de vacío del semiconductor
| Material: | Cuarzo de la pureza elevada |
|---|---|
| Dimensiones: | Φ210mm x 20mm |
| Superficie: | Pulido de precisión de doble cara. |
Alta pureza de silicio fundido de cuarzo de barco piezas de vidrio personalizadas de formación integral para bandeja de recocido de semiconductores
| Material: | Sílice fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) |
|---|---|
| Proceso de formación: | Conformado en Caliente Integral |
| Temperatura de funcionamiento máxima: | 1100°C |
Placa de cuarzo perforada de alta pureza de silicio fundido de doble lado para el revestimiento al vacío de hornos de tubos
| Material: | Silicia fundida de alta pureza |
|---|---|
| Superficie: | Tierra fina de doble cara |
| Calidad del agujero: | Uniforme de precisión, bordes limpios, sin astillas |

