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36x32x580mm Quarzo de alta pureza Instrumento Resistencia al calor A prueba de ácidos y álcalis Para purificación de destilación en laboratorio
| Material | Sílice fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) | Dimensiones | 36 mm x 32 mm x 580 mm |
|---|---|---|---|
| Temperatura de funcionamiento máxima | 1100°C | Resistencia química | HF, ácidos fuertes y álcalis, disolventes orgánicos |
| Resistencia al choque térmico | Excelente, bajo CTE 5,5 x 10^-7 /°C | Transmitancia | Rango UV-Visible |
| Pureza | Sin precipitación de iones metálicos | Solicitud | Destilación de laboratorio, purificación de productos químicos finos, pretratamiento de semiconducto |
| Resaltar | Instrumentos de cuarzo de 36x32x580 mm,instrumento de cuarzo de alta pureza,Instrumento de cuarzo de purificación química |
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Resumen del producto
ElInstrumento de cuarzo de alta pureza(36 mm x 32 mm x 580 mm) es un recipiente de vidrio de cuarzo versátil diseñado para aplicaciones químicas, semiconductores y ambientales exigentes.ofrece una estabilidad térmica excepcional hasta 1100 °C, excepcional inertad química frente a los HF y a los medios corrosivos fuertes, y cero precipitación de iones metálicos, lo que lo convierte en la opción preferida para el procesamiento químico de alta pureza y los flujos de trabajo analíticos.
Características clave
- Resistencia a altas temperaturas:Adecuado para la llama directa y el calentamiento eléctrico; mantiene la integridad estructural en condiciones térmicas extremas sin deformación
- Fuerte resistencia al ácido y alcalino:Durabilidad química excepcional frente al ácido fluorhídrico, ácidos concentrados, álcalis fuertes y disolventes orgánicos
- Alta pureza sin precipitación de metal:SiO2 > 99,99% sin lixiviación iónica, evitando la contaminación de las muestras en procesos analíticos y de purificación sensibles
- Excelente resistencia al choque térmico:Bajo coeficiente de expansión térmica evita el agrietamiento durante ciclos rápidos de calentamiento-enfriamiento, muy superior al vidrio borosilicato
- Alta transmisión:Excelente claridad óptica en todo el rango UV visible para el seguimiento visual de reacciones y procesos
Aplicaciones
| Industria | Aplicación |
|---|---|
| Química de laboratorio | Contenedor de reacción de destilación y reflujo a altas temperaturas para HF y reactivos ácidos/alcalinos concentrados bajo llama directa o calefacción eléctrica.utilizado para la purificación de materiales y análisis físico-químico |
| Química fina y nuevos materiales | Conjunto de purificación de síntesis húmeda y decapado ácido para materias primas de alta pureza; evita el dopaje de impurezas metálicas para garantizar la pureza del producto final |
| Industria de semiconductores | Contenedor para el pretratamiento de reactivos de destilación y materias primas precursoras de grado electrónico; cumple los requisitos de fabricación ultralimpia para materiales electrónicos |
| Pruebas ambientales | Célula de digestión de alta temperatura para el preprocesamiento de muestras de gases residuales y líquidos; resistente a la corrosión frente a reactivos de digestión agresivos |
Ventajas competitivas
El instrumento de vidrio de borosilicato:Resiste el ácido fluorhídrico y el funcionamiento continuo a 1100 °C frente a ~ 500 °C; excelente resistencia a los golpes térmicos evita el agrietamiento bajo cambios rápidos de temperatura;Ultra alta pureza elimina la precipitación de iones y la contaminación de las muestras
En el caso de los instrumentos de PTFE/teflón:Adecuado para aplicaciones a altas temperaturas en las que el PTFE se ablanda por encima de 260 °C; pared transparente permite el monitoreo visual del proceso; estructura rígida mantiene la estabilidad dimensional bajo el ciclo térmico
Especificaciones
| Parámetro | Valor |
|---|---|
| El material | Silicio fundido de alta pureza (SiO2 > 99,99%) |
| Las dimensiones | Se trata de un sistema de control de las emisiones de gases de escape. |
| Temperatura máxima de funcionamiento | 1100°C |
| Resistencia química | HF, ácido fuerte y álcali, disolventes orgánicos |
| Resistencia al choque térmico | Excelente, CTE baja 5,5 x 10^-7 /°C |
| Transmisibilidad | Rango visible de los rayos UV |
| Purificación | No hay precipitación de iones metálicos |

