Cátodo de cuarzo anticorrosión de pureza elevada con tamaño personalizado de superficie helada

Nombre del producto: Cátodo de cuarzo congelado de alta pureza con alta temperatura y resistencia a la corrosión
Dimensiones: 95 mm*91 mm*44,5 mm

Procesado integralmente de cuarzo de alta pureza con una glaseada fina de una o dos caras, con alta resistencia a la temperatura, fuerte resistencia a la corrosión, cero precipitación de metal,excelente aislamiento y transmisión uniforme de luz difusaAmpliamente utilizado en recubrimiento, pulverización al vacío, electroquímica, plasma de laboratorio y procesos optoelectrónicos de semiconductores:

Química de laboratorio y electroquímica

Instalación de cátodos para cámaras de reacción de plasma: Base de cátodo aislante dentro del equipo de limpieza de plasma al vacío y de grabado iónico.La superficie congelada dispersa uniformemente el haz de plasma para mejorar la uniformidad de la reacción.

Portador para ensayos electroquímicos corrosivos: soporte aislante para experimentos de electrólisis con ácido, álcali y electrolito que contiene flúor,aislar las impurezas de los electrodos metálicos para evitar la contaminación de los electrolitos.

Semiconductores y microelectrónica fotovoltaica (aplicación central)

Soporte de cátodo de cuarzo para pulverización y revestimiento PVD: Soporta objetivos metálicos y sustratos de obleas.Material de alta pureza evita la precipitación de iones metálicos y defectos de la película.

Componentes de cátodos aislantes en cámaras de vacío para la fabricación de chips optoelectrónicos y dispositivos de película delgada, que cumplen los estándares de fabricación electrónica ultralimpia.

Materiales nuevos y productos químicos finos de película fina

Jig de soporte de cátodo para deposición de película funcional y nano-revestimiento, no deformable y libre de contaminación en condiciones de vacío de alta temperatura.

Base aislante de los tanques de reacción de plasma para la preparación de películas conductoras de baterías de litio y películas catalíticas, resistente al vapor corrosivo de los precursores.

Condiciones especiales de ensayo de la optoelectrónica al vacío

Base del cátodo emparejada con fuentes de luz de plasma UV; el cuarzo congelado difunde la luz UV de manera uniforme para estabilizar la salida de luz.

Funcionamiento continuo a 200 ~ 1100 °C bajo vacío, adecuado para procesos de activación iónica a alta temperatura y deposición de vapor a alta temperatura.