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Pureza elevada de la ventana 210x20m m del cuarzo pulido del lado doble para la mirilla de la cámara de vacío del semiconductor
| Material | Cuarzo de la pureza elevada | Dimensiones | Φ210mm x 20mm |
|---|---|---|---|
| Superficie | Pulido de precisión de doble cara. | Resistencia a la temperatura | Hasta 1100 °C |
| Resistencia química | Resistente a HF y ácidos fuertes/álcalis | Transmitancia | Transmitancia alta |
| Pureza | Alta pureza, sin precipitación de metales | ||
| Resaltar | Ventana de cuarzo pulida de doble cara,Ventana de cuarzo de 210x20 mm,Mirilla de cuarzo de alta pureza |
||
Ventana de cuarzo de doble lado pulido Φ210x20mm
Esta ventana de cuarzo de doble cara pulida, de tamaño Φ210x20 mm, ofrece una excepcional claridad óptica y durabilidad química para aplicaciones industriales y científicas exigentes.Polido con precisión en ambas superficies con una construcción de cuarzo de alta purezaProporciona una alta transmitancia, resistencia al calor a 1100°C y resistencia al ácido HF, ideal para ventanas de visión de cámara de vacío semiconductores.vidrieras de hornos de alta temperatura y vidrio de visualización de reactores químicos.
Parámetros del producto
| Parámetro | Especificación |
|---|---|
| El material | Cuarzo de alta pureza |
| Las dimensiones | Para las unidades de carga de los vehículos de motor |
| Finalización de la superficie | Polido con precisión de doble cara |
| Transmisibilidad | Alto grado de transmisión |
| La superficie es plana | Excelente planeidad |
| Resistencia a la temperatura | Hasta 1100°C (a largo plazo) |
| Resistencia química | Resistente al HF y a los ácidos/alcalinos fuertes |
| Purificación | Alta pureza, sin precipitación de impurezas metálicas |
| Resistencia al choque térmico | Excelente y baja expansión térmica |
Características clave
- Polido óptico de doble cara- Ambas superficies son pulidas con precisión para una máxima transmisión de luz con una dispersión mínima, lo que garantiza una visualización óptica y una medición sin distorsiones.
- 1100°C Funcionamiento continuo¢ Mantiene la claridad óptica y la integridad estructural en condiciones de alta temperatura sostenidas, ideal para aplicaciones de cámara de alta temperatura.
- Resistencia a HF y fuertes sustancias químicas¢ Superior al vidrio de borosilicato, resiste el ácido fluorhídrico y los ácidos/alcalinos concentrados para aplicaciones de vidrio de mira en reactores químicos.
- Alta pureza, sin contaminación- 99,99% de cuarzo puro con precipitación de impurezas metálicas cero, evitando la contaminación de la cámara en semiconductores y procesos de alta limpieza.
- Baja expansión térmica¢ Una excelente resistencia a los golpes térmicos evita el agrietamiento por cambios rápidos de temperatura, lo que garantiza una larga vida útil en entornos de calefacción cíclica.
Aplicaciones
1Equipos de semiconductores y fotovoltaicos
Cámara de vacío, PECVD y ventana de visualización de la máquina de recubrimiento que aísla el polvo y los gases de proceso, a la vez que soporta altas temperaturas y entornos de gases corrosivos sin contaminar las piezas de trabajo de la cámara.
2Instrumentos de inspección óptica
Ventana de sellado de la trayectoria de la luz para espectrómetros y equipos de ensayo UV, que garantiza la transmisión de luz sin pérdidas para mejorar la precisión de detección y la precisión de medición.
3Fuegos industriales de alta temperatura
Puerto de observación para hornos de tubos y hornos de sinterización, resistentes a un funcionamiento continuo de 200 a 1100 °C y resistentes a la rotura por choque térmico.
4Equipo químico y de laboratorio
Vidrio de visualización resistente a la corrosión para recipientes de reacción y equipos de reacción corrosiva, resistente a HF y productos químicos concentrados para la observación interna del proceso en tiempo real.
Ventajas sobre el vidrio borosilicato
A diferencia de las ventanas de vidrio borosilicato que son atacadas por HF y se degradan a altas temperaturas, esta ventana de cuarzo ofrece una resistencia total a HF, un funcionamiento sostenido a 1100 ° C,una transmisión óptica superior por el pulido de doble cara, baja expansión térmica para la resistencia al choque térmico, y alta pureza para el servicio libre de contaminación en semiconductores y entornos de fabricación altamente limpios.

