Placa de cuarzo perforada de alta pureza de silicio fundido de doble lado para el revestimiento al vacío de hornos de tubos

Placa de cuarzo perforada de precisión Sílice fundida de alta pureza

Esta placa de cuarzo perforada de precisión está fabricada con sílice fundida de alta pureza con molienda fina de doble cara. Con orificios precisamente uniformes con bordes limpios y sin astillas, ofrece resistencia al calor de 1100 °C y una durabilidad superior a HF y a fuertes productos químicos ácidos/álcalis. Ideal para deflectores de difusión de gas en hornos tubulares, accesorios de revestimiento al vacío de piezas de trabajo, soportes de sinterización de semiconductores y placas filtrantes de laboratorios químicos.

Parámetros del producto

Características clave

• Orificios perforados de precisión– Patrón de orificios uniforme con bordes limpios y sin astillas, lo que garantiza un flujo de gas constante y un rendimiento mecánico confiable.
• Tierra fina de doble cara– Ambas superficies están rectificadas con precisión para lograr una planitud superior y un espesor uniforme, lo que garantiza un soporte estable de la pieza de trabajo y una distribución del gas.
• Resistencia al calor de 1100°C– Mantiene la integridad estructural y la estabilidad dimensional bajo funcionamiento sostenido a alta temperatura en hornos tubulares y aplicaciones de sinterización.
• HF y fuerte resistencia química– Superior al vidrio de borosilicato, resiste el ácido fluorhídrico y los ácidos/álcalis concentrados para aplicaciones de procesamiento químico.
• Alta pureza, sin contaminación– Sílice fundida 99,99% pura con precipitación cero de impurezas, lo que evita la contaminación de muestras en procesos de semiconductores y de alta pureza.

Aplicaciones

1. Deflector de gas del horno tubular

Placa separadora permeable al gas que soporta materiales en polvo y al mismo tiempo equilibra la distribución del flujo de gas protector dentro de los entornos de hornos tubulares para un tratamiento térmico uniforme.

2. Accesorio de recubrimiento al vacío

Portador de posicionamiento de piezas de trabajo con orificios pasantes que permiten la circulación del gas de proceso durante la deposición de películas delgadas al vacío, lo que garantiza una cobertura uniforme del recubrimiento.

3. Portador de sinterización de semiconductores

Placa de soporte permeable al gas para la sinterización de materiales semiconductores, que permite la desgasificación de impurezas y una exposición uniforme a la atmósfera durante el procesamiento a alta temperatura.

4. Placa filtrante de laboratorio químico

Separador de filtro resistente a la corrosión y placa de soporte permeable a los gases de reacción para aplicaciones de laboratorio químico que involucran reactivos agresivos.

Ventajas sobre el vidrio de borosilicato

A diferencia de las placas perforadas de vidrio de borosilicato que son atacadas por HF y se ablandan a altas temperaturas, esta placa de sílice fundida ofrece resistencia total a HF, operación sostenida a 1100 °C, excelente resistencia al choque térmico sin grietas y alta pureza con cero contaminación, lo que la convierte en la opción superior para aplicaciones exigentes de alta temperatura, corrosivas y de alta pureza.