Placa de cuarzo pulida de un solo lado 200x250x6mm de alta pureza para el portador de obleas de semiconductores

Lugar de origen Porcelana
Número de modelo QSP-SS-200250
Precio negotiable
Condiciones de pago T/T, L/C, PayPal, Western Union
Datos del producto
Material Cuarzo de la pureza elevada Dimensiones 200 mm x 250 mm x 6 mm
Superficie Pulido óptico de precisión de un solo lado Resistencia a la temperatura Hasta 1100 °C
Resistencia química Resistente a HF y ácidos fuertes/álcalis Pureza Alta pureza, sin precipitación de metales
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Placa de cuarzo pulido de un solo lado

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200x250x6mm Placa de cuarzo

,

Placa de cuarzo portadora de obleas semiconductoras

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Descripción de producto

Placa De Cuarzo Pulido De Una Cara 200x250x6mm

Esta placa de cuarzo pulido de un solo lado, con un tamaño de 200x250x6 mm, presenta una superficie pulida óptica de precisión con el lado opuesto rectificado a la izquierda para un posicionamiento estable. Fabricado con cuarzo de alta pureza, ofrece resistencia al calor de 1100 °C y durabilidad química superior, ideal para portadores de obleas semiconductoras, sustratos de experimentos ópticos, accesorios de recubrimiento al vacío y herramientas de laboratorio de alta temperatura.

Parámetros del producto

ParámetroEspecificación
MaterialCuarzo de alta pureza
Dimensiones200 mm x 250 mm x 6 mm
Acabado superficialPulido óptico de precisión de un solo lado
Resistencia a la temperaturaHasta 1100°C
Resistencia químicaResistente a HF y ácidos fuertes/álcalis
TransmitanciaAlta transmitancia (lado pulido)
Expansión térmicaBaja expansión, resistente al choque térmico
PurezaAlta pureza, sin precipitación de impurezas metálicas

Características clave

  • Pulido óptico de un solo lado– Una superficie pulida a espejo con precisión para una excelente transmisión de luz y claridad óptica, mientras que el reverso rectificado proporciona un posicionamiento y montaje estables.
  • Resistencia al calor de 1100°C– Mantiene la integridad estructural y la estabilidad dimensional a altas temperaturas sostenidas sin deformación, ideal para operaciones de difusión y procesamiento de obleas semiconductoras.
  • HF y fuerte resistencia química– Superior al vidrio de borosilicato, resiste el ácido fluorhídrico y los ácidos/álcalis concentrados para entornos exigentes de procesamiento químico y de semiconductores.
  • Alta pureza, sin contaminación– Cuarzo puro al 99,99 % sin precipitación de impurezas metálicas, lo que evita la contaminación de obleas y muestras en la fabricación de semiconductores de alta pureza.
  • Baja expansión térmica– La excelente resistencia al choque térmico evita el agrietamiento bajo ciclos rápidos de temperatura, lo que garantiza un servicio confiable a largo plazo en aplicaciones de calentamiento cíclico.

Aplicaciones

1. Industria fotovoltaica y de semiconductores

Placa portadora de obleas para procesos de difusión y recubrimiento de virutas. La superficie pulida soporta obleas sin contaminación, manteniendo la estabilidad dimensional a altas temperaturas de procesamiento sin desprendimiento de impurezas.

2. Industria de instrumentos ópticos

Sustrato de referencia para pruebas de espectro y placa base de fijación del camino óptico. La superficie pulida garantiza una transmisión de luz clara, mientras que el lado no pulido proporciona un posicionamiento y montaje estables.

3. Proceso de recubrimiento de precisión

Accesorio de base de recubrimiento al vacío para la deposición de lentes ópticas, resistente a altas temperaturas de la cámara y gases de proceso corrosivos durante operaciones de recubrimiento de película delgada.

4. Laboratorio químico

Bandeja de sinterización de alta temperatura y soporte de muestra para pruebas de corrosión, compatible con HF y varios reactivos corrosivos fuertes para experimentos químicos exigentes.

Ventajas sobre el vidrio de borosilicato

A diferencia de las placas de vidrio de borosilicato que son atacadas por HF y se ablandan a altas temperaturas, esta placa de cuarzo pulido de un solo lado ofrece resistencia total a HF, operación sostenida a 1100°C, acabado superficial de grado espejo para una transmisión de luz superior, baja expansión térmica para resistencia a grietas y construcción de alta pureza para entornos de fabricación de precisión y semiconductores libres de contaminación.