Reactor de laboratorio de digestión química de alta pureza de silicio fundido de cuarzo de tanque de pared uniforme HF resistente a las obleas

Lugar de origen Porcelana
Número de modelo QTA-HP-PERSONALIZADO
Precio negotiable
Condiciones de pago T/T,LC,PayPal,Western Union
Datos del producto
Material Silicia fundida de alta pureza Construcción Integralmente fusionado o adherido
Superficie Tierra fina de doble cara, pared interior lisa Resistencia a la temperatura ≤1100°C Trabajo continuo
Resistencia química Resistente a HF y ácidos fuertes/álcalis concentrados
Resaltar

Tanque de cuarzo de alta pureza

,

Tanque de cuarzo de silicio fundido

,

Tanque de cuarzo para decapado de obleas

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Descripción de producto

Tanque de cuarzo de silicio fundido de alta pureza

Este tanque de cuarzo de sílice fundido de alta pureza presenta un espesor de pared uniforme, superficies de suelo finas de doble lado y una construcción integralmente fundida o unida.Con una temperatura de trabajo continua ≤1100°C y una resistencia química superior a HF/ácidos fuertes, ofrece un rendimiento confiable para el decapado de obleas de semiconductores, la digestión de muestras a alta temperatura,reacciones con reactivos químicos y calcinación abierta en laboratorio con un rendimiento significativamente superior a las alternativas de vidrio borosilicato.

Parámetros del producto

ParámetroEspecificación
El materialSilicia fundida de alta pureza
ConstrucciónLas demás partidas de los productos de la partida 85
espesor de la paredEl uniforme
Finalización de la superficieDos lados, suelo fino, pared interna lisa
Temperatura de trabajo≤ 1100°C Continuo
Resistencia químicaHF y resistente a ácidos y álcalis fuertes concentrados
Expansión térmicaBajo, resistente al calentamiento y enfriamiento rápidos
PurificaciónAlta pureza, sin precipitación de metales pesados

Características clave

  • Resistencia a HF y fuertes sustancias químicas- Completamente resistente al ácido fluorhídrico y a los ácidos/alcalinos fuertes concentrados, adecuado para la inmersión prolongada de reactivos corrosivos que destruirían los tanques de vidrio de borosilicato.
  • ≤ 1100°C Funcionamiento continuo mantiene la integridad estructural a altas temperaturas sostenidas para la digestión, la calcinación y los procesos químicos a altas temperaturas sin ablandarse ni deformarse.
  • Alta pureza, sin contaminación- 99,99% de sílice fundido puro con cero precipitación de metales pesados, lo que garantiza la ausencia de contaminación cruzada durante el procesamiento de obleas de semiconductores y aplicaciones químicas de alta pureza.
  • Baja expansión térmica¢ Excelente resistencia al choque térmico, soporta ciclos rápidos de calentamiento y enfriamiento sin agrietarse, lo que permite un uso cíclico repetido en ambientes de laboratorio e industriales exigentes.
  • Pared interna lisaLa superficie interior polida con precisión permite una limpieza fácil y una adhesión mínima de residuos, reduciendo el riesgo de contaminación cruzada entre lotes.

Aplicaciones

1. Aguardiente húmedo ácido

Tanque de inmersión en ácido para procesos de decapado y limpieza de obleas fotovoltaicas, de vidrio óptico y de semiconductores, con una resistencia total a los HF y ácidos que garantiza un funcionamiento fiable a largo plazo.

2Digestión a alta temperatura

Contenedor de digestión y evaporación de muestras para análisis químicos, ensayos ambientales y ensayos de laboratorio, resistente al calentamiento prolongado y a los reactivos de digestión corrosiva.

3Producción química a pequeña escala

Reacción de reactivos corrosivos, depuración y tanque de almacenamiento temporal para ensayos químicos a escala piloto, con construcción de cuarzo inerte que evita reacciones secundarias no deseadas.

4Sinterización en laboratorio

Contenedor de calcinación abierto para materias primas en polvo en hornos eléctricos de laboratorio, con estabilidad a altas temperaturas y construcción no contaminante para obtener resultados experimentales repetibles.

Ventajas sobre el vidrio borosilicato

A diferencia de los tanques de vidrio borosilicato atacados por HF y ablandados a altas temperaturas, este tanque de cuarzo de sílice fundido ofrece una resistencia total a HF, un funcionamiento sostenido a 1100 ° C,excelente resistencia al choque térmico para uso cíclico, y alta pureza sin precipitación de metales pesados, lo que lo convierte en la opción definitiva para el procesamiento de obleas semiconductoras, la digestión a altas temperaturas y las aplicaciones químicas corrosivas.