Sustrato de cuarzo de alta pureza de 180 × 15 × 5 mm con resistencia a altas temperaturas

Lugar de origen Porcelana
Número de modelo QT-SB-180x15x5
Precio negotiable
Datos del producto
Material Sílice fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) Dimensiones 180 mm x 15 mm x 5 mm (largo x ancho x alto)
Temperatura de funcionamiento máxima 1100°C Acabado superficial Precisión rectificada y pulida.
Coeficiente de expansión térmica 5,5 x 10^-7 /°C (CTE ultrabajo) Resistencia química Ácido fluorhídrico, ácido fuerte y álcali
Transmitancia > 92% (rango UV-Visible) Impureza metálica Ultrabajo, sin precipitaciones
Solicitud Recubrimiento de oblea semiconductora, Sustrato de película óptica, Accesorio de celda fotovoltaica,
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Sustrato de cuarzo de alta pureza

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Substrato de cuarzo de 180 × 15 × 5 mm

,

Substrato de cuarzo resistente a altas temperaturas

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Descripción de producto

Resumen del producto

ElSubstrato de cuarzo de silicio fundido de alta purezaes una placa de vidrio de cuarzo molida con precisión (180 mm x 15 mm x 5 mm) diseñada para semiconductores de gama alta, recubrimientos ópticos, fotovoltaicos y aplicaciones de laboratorio.Fabricados a partir de silicio fundido de primera calidad (SiO2 > 99.99%), este sustrato ofrece una estabilidad térmica excepcional, inertitud química y claridad óptica making lo que es la opción preferida para ambientes de fabricación de alta precisión exigentes.

Características clave

  • Ultra-Alta pureza:SiO2 > 99,99% con un contenido de impurezas metálicas muy bajo.
  • Resistencia a las temperaturas de 1100°C:Resiste al calor extremo sin deformación ni degradación, superando con creces las alternativas de vidrio borosilicato
  • Resistencia a la corrosión por HF y fuerte:Excelente resistencia química contra el ácido fluorhídrico, los ácidos fuertes y los álcalis
  • Expansión térmica muy baja:CTE de 5,5 x 10^-7 /°C evita el agrietamiento y la deformación bajo ciclos de temperatura rápidos
  • Alta transmisión:> 92% de transmisión a través del espectro UV al visible, perfecto para aplicaciones de recubrimiento óptico y fotolitografía
  • Fin de superficie de precisión:Las superficies molidas y pulidas de precisión garantizan la planitud y la deposición uniforme del revestimiento

Aplicaciones

IndustriaAplicación
Semiconductores y microelectrónicaContenedor de embalaje de obleas, sustrato litográfico, base de recubrimiento a alta temperatura, plataforma de ensayo de envejecimiento de componentes electrónicos
Óptica y fotoeléctricaSubstrato óptico de recubrimiento de película delgada, base de la placa de filtro, dispositivo de recubrimiento al vacío, banco de ensayo de espectro
Energía fotovoltaicaAccesorios de revestimiento de células solares, difusión a alta temperatura y portador de procesos PECVD, sustrato antideformación
Laboratorio y química finaPlataforma de sinterización a alta temperatura, banco de ensayo de corrosión HF, portador de reacción química fuerte
Instrumento de precisiónSubstrato de referencia del espectrómetro, placa de banco del equipo de inspección óptica

Ventajas competitivas

contra el vidrio de borosilicato:Resiste más de 1100 °C frente a ~ 500 °C límite; resistencia superior ácido HF; 10 veces menor expansión térmica evita la grieta; impureza de metal ultra-baja elimina el riesgo de contaminación del proceso

contra la cerámica de aluminio:Alta transparencia óptica para aplicaciones UV visibles; acabado superficial más liso para recubrimiento uniforme; peso más ligero y mecanizado de precisión más fácil

Especificaciones

ParámetroValor
El materialSilicio fundido de alta pureza (SiO2 > 99,99%)
Las dimensionesEl valor de las emisiones de CO2 de los motores de combustión renovable se calculará en función de las emisiones de CO2 de los motores de combustión renovable.
Temperatura máxima de funcionamiento1100°C
TEC5.5 x 10^-7 /°C
Transmisibilidad> 92% (Visible a los rayos UV)
Resistencia químicaHF, ácido fuerte y álcali
Finalización de la superficieAplastado y pulido con precisión
Impuridad del metalUltrabaja, sin precipitación